僅か 1540nm ピクセルえー: ガラス レーザーの皮の rejvuenation

それは 1540nm ER の第三世代です: ガラス レーザーの皮の reuvenation。
理論:
1540nm エルビウムのガラス レーザー システムは顕微鏡のビームの数に裂ける他の地帯を完全にそのまま去る 1540nm エルビウムのガラス繊維のレーザ光線を、皮の指定目標地域内の小さい点、か僅かの処置の地帯を作り出します始動させ。 従って、レーザーの熱は僅かの損なわれた区域をだけ深く通ります。 これは皮が全処置区域より大いに速く直されるようにします。 自己新しい表紙を付ける皮の間に多くのコラーゲンは皮の若返りのために作り出されます; 最終的に皮は大いにより健康、により若く見ます。
僅か 1540nm の利点
1 の走査器システムよりよい集中
僅かシステムの走査器システムと比較されて、MLA システムは狭く、深い MTZs （マイクロ熱地帯） - 250 micro*1mm を可能にします。 他の僅かの物がちょうど浅い MTZs を発生させるので新しい表紙を付ける実質の皮の狭いところそして MTZs の結果はところで処置の効果を減らし。 MLA の方法が原因で、えー; ガラス レーザーは正確にエネルギーを提供できます。 僅かの市場では、こんにちはブランドの僅かプロダクトのほとんどは上記の理由によって MLA のアプローチを採用します。 レンズの湾曲は球の形のようほとんどであり、特にハイテクです。 MLA の方法はより少ない苦痛、より少ない膨張およびより少ない赤みを与えます。
2 の 1540nm 僅かのエルビウム: ガラスは僅か二酸化炭素より深い突き通します
二酸化炭素レーザーは皮に深く入るかわりにちょうど皮の表面を傷付けます吸水率が非常に高いので。 エルビウム: ガラス レーザーはエルビウムむしろより少ないダウンタイムの長期効果のための皮の表面によって散らないで深い穴に、集中しがちです: ガラスは党派システムのレーザー ソースの選択のベストです。
Techinical の変数および指定:
モデル: E003
光源 1540 nm のエルビウムのガラス レーザー
波長 1540 nm
MTZ エネルギー 100: 30。40。50。60。 70mJ/MTZ、
324: 5. 8. 10. 15。25ml/MTZ
MTZs 密度 100 つの MTZs/の cm2、300 の MTZs/の cm2
脈拍幅 10ms、選択可能な 15ms
脈拍繰返し率 1Hz はまたは選抜します
インターフェイス 8"を本来の性格タッチ画面 TFT LCD 作動させて下さい
冷却装置の空気 &Water の循環の冷却装置
電源 230-260V、50-60Hz
システム・ソフトウェアの改善のための USB の出口を整備して下さい
システムの大きさ 50cm*40cm*105cm （L*W*H）
純重量: 45KGS
適用範囲:
すべての皮タイプおよび色の仕事
アクネ取り外しか facical 傷の取り外し
そばかすおよび茶色点を含む太陽の損傷を、取除くため
しわおよびラインを首、表面および手から除去するため。
smoothe の荒い皮におよび皮の質を改善するため。